Polysiloxan, Verfahren zur Herstellung, Silicium-haltige alicyclische Verbindung, und strahlungsempfindliche Harzverbindungen
EP1142928
Art B1
18. Februar 2004
Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1142928
- Aktenzeichen
- EP01108625
- Anmeldetag
- 5. April 2001
- Veröffentlichung
- 18. Februar 2004
- Erteilung
- 18. Februar 2004
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C08G77/04C08G77/14C08G77/24C08L83/04C08L83/06C08L83/14C07F7/04C07F7/08C07F7/21G03F7/004G03F7/039G03F7/075C07C13/39
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
1.781 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Leson, Thomas Johannes Alois, Dipl.-Ing
München, Deutschland
4.590
Patente gesamt
34
Fachgebiete
21
Anmelder-Länder
Schwerpunkte