Verfahren zur Herstellung eines Siliciumwafer

EP1143047 Art B1 4. November 2015

Anmelder: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd., Shin-Etsu Handotai Co., Ltd 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1143047
Aktenzeichen
EP00961105
Anmeldetag
20. September 2000
Veröffentlichung
4. November 2015
Erteilung
4. November 2015
Rechtsraum
EP
IPC
C30B25/02F24F3/16C30B29/06H01L21/02
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
Shin-Etsu Handotai Co., Ltd.
Shin-Etsu Handotai Co., Ltd
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Shin-Etsu Handotai

Japanisches Unternehmen der Shin-Etsu-Gruppe, das Siliziumwafer für die Halbleiterindustrie herstellt.

1.022 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen