Wärmebehandlungsverfahren
EP1143494
Art A1
10. Oktober 2001
Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1143494
- Aktenzeichen
- EP00954982
- Anmeldetag
- 24. August 2000
- Veröffentlichung
- 10. Oktober 2001
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/3215
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO ELECTRON LIMITED
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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Vertreten von
Liesegang, Roland
München, Deutschland
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