Verfahren zur Herstellung von Fluorosilikat-Glasschichten mittels einem Plasma höher Dichte, für Kupfer-Damascene IC's
EP1146142
Art A2
17. Oktober 2001
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1146142
- Aktenzeichen
- EP01303474
- Anmeldetag
- 12. April 2001
- Veröffentlichung
- 17. Oktober 2001
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C16/40C23C16/505H01L21/316H01J37/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
6.825 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Setna, Rohan P
London, Großbritannien
754
Patente gesamt
34
Fachgebiete
23
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Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Allard, Susan Joyce
NoneLondon