Verfahren und Vorrichtung zur Behandlung von Halbleitersubstraten mit Hydroxylradikalen

EP1148150 Art B1 16. September 2009

Anmelder: Applied Materials, Inc., APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1148150
Aktenzeichen
EP01303631
Anmeldetag
20. April 2001
Veröffentlichung
16. September 2009
Erteilung
16. September 2009
Rechtsraum
EP
IPC
C23C16/40C23C16/48C30B25/08H01L21/205H01L21/285H01L21/316
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
Applied Materials, Inc.
APPLIED MATERIALS, INC.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

10.783 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen