Herstellung von Filmen mit niedriger Dielektrizitätskonstante unter Verwendung eines oxidierenden Plasmas

EP1148539 Art A3 29. Dezember 2004

Anmelder: Applied Materials, Inc., APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1148539
Aktenzeichen
EP01303567
Anmeldetag
19. April 2001
Veröffentlichung
29. Dezember 2004
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/316C23C16/40
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
Applied Materials, Inc.
APPLIED MATERIALS, INC.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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