Polymere, Resistzusammensetzungen und Verfahren zur Herstellung eines Resistmusters
EP1150166
Art B1
19. Dezember 2007
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1150166
- Aktenzeichen
- EP01303868
- Anmeldetag
- 27. April 2001
- Veröffentlichung
- 19. Dezember 2007
- Erteilung
- 19. Dezember 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/039G03F7/004C08F222/06C08F232/08
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
1.545 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Stuart, Ian Alexander
London, Großbritannien
612
Patente gesamt
32
Fachgebiete
14
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Schwerpunkte