Verfahren zur Herstellung einer Photolithographie-Belichtungsmaske
EP1152290
Art B1
2. Mai 2007
Anmelder: Sharp Kabushiki Kaisha, SHARP KABUSHIKI KAISHA 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1152290
- Aktenzeichen
- EP00310124
- Anmeldetag
- 15. November 2000
- Veröffentlichung
- 2. Mai 2007
- Erteilung
- 2. Mai 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/02H01L21/027G03F1/08G03F7/20H01L21/321G03F1/14
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Sharp Kabushiki Kaisha
SHARP KABUSHIKI KAISHA - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Sharp
Japanischer Elektronikkonzern mit Sitz in Sakai bei Osaka, seit 2016 mehrheitlich zu Foxconn gehörend. Aktiv in Displaytechnik (LCD, OLED), Unterhaltungselektronik, Haushaltsgeräten sowie Halbleiter- und Solartechnologie.
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Vertreten von
Brown, Kenneth Richard
London, Großbritannien
983
Patente gesamt
29
Fachgebiete
15
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Schwerpunkte