Reaktor für Plasmaunterstüzte Gasbehandlung

EP1153207 Art B1 16. Oktober 2002

Anmelder: Accentus Plc, Accentus plc, AEA Technology plc 🇬🇧

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1153207
Aktenzeichen: EP00902739
Anmeldetag: 10. Februar 2000
Veröffentlichung: 16. Oktober 2002
Erteilung: 16. Oktober 2002
Rechtsraum: EP
IPC: F01N3/08B01D53/32F01N3/01

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: Accentus Plc
Accentus plc
AEA Technology plc
Land: 🇬🇧 Großbritannien

Fachgebiete

Energie- & Antriebstechnik (Kraftmaschinen) Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von

Lofting, Marcus John Didcot, Großbritannien

13

Patente gesamt

6

Fachgebiete

1

Anmelder-Länder

Schwerpunkte

Verfahrens- & Trenntechnik Energie- & Antriebstechnik (Kraftmaschinen) Elektronik & Schaltungstechnik Anorganische Chemie & Werkstoffe Maschinenelemente & Fluidtechnik Elektrische Energietechnik

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