Gasreaktionen zum Eliminieren von Verunreinigungen in einer CVD-Reaktionskammer
EP1154036
Art A1
14. November 2001
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1154036
- Aktenzeichen
- EP01304237
- Anmeldetag
- 11. Mai 2001
- Veröffentlichung
- 14. November 2001
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C16/44
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
6.825 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Allard, Susan Joyce
London, Großbritannien
131
Patente gesamt
26
Fachgebiete
8
Anmelder-Länder
Schwerpunkte