Remote-Plasma-CVD-Vorrichtung
EP1156511
Art A1
21. November 2001
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1156511
- Aktenzeichen
- EP01111448
- Anmeldetag
- 10. Mai 2001
- Veröffentlichung
- 21. November 2001
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01J37/32C23C16/452
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
6.825 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Kirschner, Klaus Dieter
München, Deutschland
863
Patente gesamt
32
Fachgebiete
23
Anmelder-Länder
Schwerpunkte