Plasmaunterstützte Gasbehandlung

EP1156866 Art B1 25. September 2002

Anmelder: Accentus Plc, Accentus plc, AEA Technology plc 🇬🇧

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1156866
Aktenzeichen: EP00906515
Anmeldetag: 28. Februar 2000
Veröffentlichung: 25. September 2002
Erteilung: 25. September 2002
Rechtsraum: EP
IPC: B01D53/32F01N3/08B01J19/08H05H1/24

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: Accentus Plc
Accentus plc
AEA Technology plc
Land: 🇬🇧 Großbritannien

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Energie- & Antriebstechnik (Kraftmaschinen) Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von

Lofting, Marcus John Didcot, Großbritannien

13

Patente gesamt

6

Fachgebiete

1

Anmelder-Länder

Schwerpunkte

Verfahrens- & Trenntechnik Energie- & Antriebstechnik (Kraftmaschinen) Elektronik & Schaltungstechnik Anorganische Chemie & Werkstoffe Maschinenelemente & Fluidtechnik Elektrische Energietechnik

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