Reaktionsvorrichtung für Elektronenstrahl-Projektionsanlage
EP1160799
Art A1
5. Dezember 2001
Anmelder: EBARA CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1160799
- Aktenzeichen
- EP00900161
- Anmeldetag
- 11. Januar 2000
- Veröffentlichung
- 5. Dezember 2001
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G21K5/00G21K5/04B01D53/32B01D53/60B01D53/00B01J19/08
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- EBARA CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Ebara
Japanischer Hersteller von Pumpen, Kompressoren und Umwelttechnik mit Sitz in Tokio, gegründet 1912.
1.514 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Wagner, Karl H
München, Deutschland
2.990
Patente gesamt
33
Fachgebiete
17
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Wagner, Karl H., Dipl.-Ing
NoneMünchen