Thermische Behandlungsvorrichtung und Verfahren
EP1160838
Art B1
5. Dezember 2007
Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED, Tokyo Electron Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1160838
- Aktenzeichen
- EP01113207
- Anmeldetag
- 30. Mai 2001
- Veröffentlichung
- 5. Dezember 2007
- Erteilung
- 5. Dezember 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/00C23C16/30C23C16/452C30B33/00C23C16/40
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- TOKYO ELECTRON LIMITED
Tokyo Electron Limited - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
2.414 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Liesegang, Roland
München, Deutschland
387
Patente gesamt
29
Fachgebiete
9
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Schwerpunkte