Verfahren zur anisotropischen Plasma-Ätzung mit einem fluorchlorkohlenstofffreien, fluorinierten Gas
EP1160849
Art A3
2. Juli 2003
Anmelder: Sharp Kabushiki Kaisha 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1160849
- Aktenzeichen
- EP01304683
- Anmeldetag
- 29. Mai 2001
- Veröffentlichung
- 2. Juli 2003
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/3213C23F1/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Sharp Kabushiki Kaisha
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Sharp
Japanischer Elektronikkonzern mit Sitz in Sakai bei Osaka, seit 2016 mehrheitlich zu Foxconn gehörend. Aktiv in Displaytechnik (LCD, OLED), Unterhaltungselektronik, Haushaltsgeräten sowie Halbleiter- und Solartechnologie.
19.779 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Jacob, Reuben Ellis
London, Großbritannien
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Patente gesamt
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Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
West, Alan Harry
NoneLondon