Verfahren zur Herstellung einer vertikalen MOS-Transistoranordnung

EP1161767 Art B1 18. Mai 2011

Anmelder: Infineon Technologies AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1161767
Aktenzeichen
EP00918684
Anmeldetag
3. März 2000
Veröffentlichung
18. Mai 2011
Erteilung
18. Mai 2011
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/336H01L21/331H01L21/265H01L21/225H01L29/78H01L29/739H01L29/10
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Infineon Technologies AG
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Infineon Technologies

Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.

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