Projektionsobjektiv, insbesondere für die Mikrolithographie
EP1164399
Art B1
8. August 2007
Anmelder: Carl Zeiss SMT AG, Carl Zeiss 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1164399
- Aktenzeichen
- EP01110646
- Anmeldetag
- 2. Mai 2001
- Veröffentlichung
- 8. August 2007
- Erteilung
- 8. August 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G02B13/14G02B1/06
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Carl Zeiss SMT AG
Carl Zeiss - Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Carl Zeiss SMT
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
1.949 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Lorenz, Werner
Heidenheim, Deutschland
361
Patente gesamt
33
Fachgebiete
13
Anmelder-Länder
Schwerpunkte