Entwicklungsverfahren und -vorrichtung
EP1164438
Art B1
21. Juli 2010
Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1164438
- Aktenzeichen
- EP01113532
- Anmeldetag
- 12. Juni 2001
- Veröffentlichung
- 21. Juli 2010
- Erteilung
- 21. Juli 2010
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/30
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO ELECTRON LIMITED
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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Fachgebiete
Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München