Verfahren zur Erzeugung von Öffnungen in einer Schicht
EP1164631
Art A3
24. März 2004
Anmelder: Infineon Technologies AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1164631
- Aktenzeichen
- EP01114346
- Anmeldetag
- 13. Juni 2001
- Veröffentlichung
- 24. März 2004
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/768H01L21/02H01L21/3105H01L21/321
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Infineon Technologies AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Infineon Technologies
Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.
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Fachgebiete
Vertreten von
Graf Lambsdorff, Matthias
München, Deutschland
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