Methode, auf einem Substrat eine Fluororganische-Silikatschicht herzustellen
EP1164632
Art A3
11. August 2004
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1164632
- Aktenzeichen
- EP01112909
- Anmeldetag
- 5. Juni 2001
- Veröffentlichung
- 11. August 2004
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/316C23C16/30C23C16/40H01L21/312
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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Vertreten von
Kirschner, Klaus Dieter
München, Deutschland
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