Plasmabehandlungsanlage mit Spule mit Variabler Rf-Kupplung

EP1166321 Art B1 6. April 2011

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1166321
Aktenzeichen
EP00908551
Anmeldetag
10. Februar 2000
Veröffentlichung
6. April 2011
Erteilung
6. April 2011
Rechtsraum
EP
IPC
H01J37/32H05H1/46
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
LAM RESEARCH CORPORATION
Land
🇺🇸 USA

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
Vertreten von
Orchard, Oliver John London, Großbritannien
25
Patente gesamt
9
Fachgebiete
5
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Nachrichtentechnik & Telekommunikation Halbleiter & Elektrische Bauelemente Software & Datenverarbeitung Elektronik & Schaltungstechnik Anzeige-, Signal- & Kontrolltechnik Akustik, Musik & Datenspeicherung
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