Plasmabehandlungsanlage mit Spule mit Variabler Rf-Kupplung
EP1166321
Art B1
6. April 2011
Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1166321
- Aktenzeichen
- EP00908551
- Anmeldetag
- 10. Februar 2000
- Veröffentlichung
- 6. April 2011
- Erteilung
- 6. April 2011
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01J37/32H05H1/46
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- LAM RESEARCH CORPORATION
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Lam Research
US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.
2.726 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Orchard, Oliver John
London, Großbritannien
25
Patente gesamt
9
Fachgebiete
5
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
WP Thompson
WP Thompson · Liverpool
-
W.P. Thompson & Co
W.P. Thompson & Co · Liverpool