Verfahren zur In-Situ Ätzung einer Hartmaske und einer Metallschicht in Derselben Ätzvorrichtung
EP1166344
Art A1
2. Januar 2002
Anmelder: Globalfoundries Inc., GlobalFoundries, Inc., ADVANCED MICRO DEVICES INC. 🇰🇾
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1166344
- Aktenzeichen
- EP00911608
- Anmeldetag
- 21. Januar 2000
- Veröffentlichung
- 2. Januar 2002
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/3213C23F4/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Globalfoundries Inc.
GlobalFoundries, Inc.
ADVANCED MICRO DEVICES INC. - Land
- 🇰🇾 KY
🇺🇸
Advanced Micro Devices
US-amerikanischer Halbleiterhersteller (AMD) mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien, bekannt für Prozessoren, Grafikchips und Server-CPUs.
1.708 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
-
Brookes IP
Brookes IP · Tunbridge Wells
-
Brookes Batchellor
Brookes Batchellor · London