Hexagonal- Bornitrid-Film mit niedriger dielektrischer Konstante ,Film mit dielektrischer Beschichtung und Verfahren zu seiner Herstellung und Plasma-CVD-Apparat

EP1167291 Art B1 26. Oktober 2005

Anmelder: MITSUBISHI HEAVY INDUSTRIES, LTD., Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1167291
Aktenzeichen: EP01114805
Anmeldetag: 27. Juni 2001
Veröffentlichung: 26. Oktober 2005
Erteilung: 26. Oktober 2005
Rechtsraum: EP
IPC: C01B21/064

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: MITSUBISHI HEAVY INDUSTRIES, LTD.
Mitsubishi Heavy Industries, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Heavy Industries

Japanischer Industriekonzern, der in Bereichen wie Energieerzeugung, Luft- und Raumfahrt, Schiffbau, Maschinenbau und Klimatechnik tätig ist und ein breites Spektrum an Industrieanlagen und -maschinen herstellt.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe

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