Wässrige Dispersion zum chemisch-mechanischen Polieren von Kupfersubstraten

EP1167482 Art B1 14. März 2007

Anmelder: Kabushiki Kaisha Toshiba, JSR Corporation, KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1167482
Aktenzeichen
EP01115585
Anmeldetag
28. Juni 2001
Veröffentlichung
14. März 2007
Erteilung
14. März 2007
Rechtsraum
EP
IPC
C09G1/02C09K3/14// H01L21/321
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
Kabushiki Kaisha Toshiba
JSR Corporation
KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Toshiba

Japanischer Konzern, der Elektronik, Halbleiter, Energie- und Infrastrukturtechnik sowie Industrieanlagen entwickelt und herstellt.

5.205 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

1.781 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente
Vertreten von
Pellmann, Hans-Bernd, Dipl.-Ing München, Deutschland
319
Patente gesamt
32
Fachgebiete
9
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Energie- & Antriebstechnik (Kraftmaschinen) Halbleiter & Elektrische Bauelemente Fahrzeugtechnik (Automobil, Bahn & Schiff) Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Optik & Fototechnik Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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