Halbleitersubstrat mit hohem Widerstand und Verfahren zur Herstellung desselben
EP1168428
Art A3
15. Juni 2005
Anmelder: Kabushiki Kaisha Toshiba, KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1168428
- Aktenzeichen
- EP01114709
- Anmeldetag
- 21. Juni 2001
- Veröffentlichung
- 15. Juni 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/322H01L29/32H01L21/324
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Kabushiki Kaisha Toshiba
KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Toshiba
Japanischer Konzern, der Elektronik, Halbleiter, Energie- und Infrastrukturtechnik sowie Industrieanlagen entwickelt und herstellt.
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Fachgebiete
Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München