Material für Schattenmaske, Verfahren zu dessen Herstellung, Schattenmaske und Bildempfangsröhre

EP1172451 Art B1 29. Oktober 2003

Anmelder: Toyo Kohan Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1172451
Aktenzeichen
EP00907946
Anmeldetag
8. März 2000
Veröffentlichung
29. Oktober 2003
Erteilung
29. Oktober 2003
Rechtsraum
EP
IPC
C22C38/00C22C38/06C21D9/46H01J9/14
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Toyo Kohan Co., Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Toyo Kohan

Der Anmelder ist ein japanischer Hersteller von Metallwerkstoffen und Verbundmaterialien. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie auf Fertigungs- und Drucktechnik, ergänzt durch Halbleiterbauelemente und pharmazeutische Anwendungen. Anmeldungen laufen seit dem Jahr 2000 durchgehend fort.

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