Polymer für Photoresist sowie Harzzusammensetzung für Photoresist
EP1172694
Art A1
16. Januar 2002
Anmelder: DAICEL CHEMICAL INDUSTRIES, LTD., Daicel Chemical Industries, Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1172694
- Aktenzeichen
- EP01949041
- Anmeldetag
- 26. Januar 2001
- Veröffentlichung
- 16. Januar 2002
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/039C08F32/00C08F20/10C08F22/06H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- DAICEL CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
Daicel Chemical Industries, Ltd. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Daicel Chemical Industries
Daicel Chemical Industries, heute Daicel Corporation, ist ein japanischer Chemiekonzern mit Schwerpunkt auf Kunststoffen, Zelluloseprodukten und Airbag-Systemen. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Kunststoff- und Polymertechnik sowie organische Chemie, ergänzt durch Fahrzeugtechnik. Anmeldungen stammen aus dem Zeitraum 2000 bis 2011.
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