Verfahren zur Behandlung von dielektrischen Schichten mit niedriger Dielektrizitätskonstante zur Verminderung der Sauerstoff-Diffusion
EP1172845
Art A3
30. September 2009
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1172845
- Aktenzeichen
- EP01305999
- Anmeldetag
- 12. Juli 2001
- Veröffentlichung
- 30. September 2009
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/3105H01L21/314H01L23/532
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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Vertreten von
Bayliss, Geoffrey Cyril
London, Großbritannien
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