Katadioptrisches Objektiv mit hoher numerischer Apertur

EP1174749 Art B1 28. November 2007

Anmelder: ASML Holding N.V., SVG LITHOGRAPHY SYSTEMS, INC. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1174749
Aktenzeichen: EP01117229
Anmeldetag: 16. Juli 2001
Veröffentlichung: 28. November 2007
Erteilung: 28. November 2007
Rechtsraum: EP
IPC: G02B17/08G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: ASML Holding N.V.
SVG LITHOGRAPHY SYSTEMS, INC.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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