Hilfsmuster für lithographisches Belichtungsverfahren
EP1174764
Art B1
31. März 2004
Anmelder: ASML Netherlands B.V., ASML MaskTools B.V., ASML Masktools B.V., ASM LITHOGRAPHY B.V., ASML Masktools Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1174764
- Aktenzeichen
- EP01306233
- Anmeldetag
- 19. Juli 2001
- Veröffentlichung
- 31. März 2004
- Erteilung
- 31. März 2004
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/14
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML Netherlands B.V.
ASML MaskTools B.V.
ASML Masktools B.V.
ASM LITHOGRAPHY B.V.
ASML Masktools Netherlands B.V. - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Leeming, John Gerard
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