Strahlungsempfindliche Harzzusammensetzung, Strahlungsempfindliches Element, Verfahren zur Herstellung eines Resistmusters, sowie Verfahren zur Herstellung einer Leiterplatte

EP1174767 Art A1 23. Januar 2002

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1174767
Aktenzeichen: EP00906620
Anmeldetag: 2. März 2000
Veröffentlichung: 23. Januar 2002
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/027C08F20/30C08F290/06C08F257/00C08F2/48

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Company, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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