Lithographischer Apparat
EP1174770
Art A3
19. Mai 2004
Anmelder: ASML Netherlands B.V., ASM LITHOGRAPHY B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1174770
- Aktenzeichen
- EP01305989
- Anmeldetag
- 11. Juli 2001
- Veröffentlichung
- 19. Mai 2004
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G02B26/08G02B17/08G02B27/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML Netherlands B.V.
ASM LITHOGRAPHY B.V. - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Slenders, Petrus Johannes Waltherus
Eindhoven, Niederlande
244
Patente gesamt
17
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Slenders, Petrus J. W
NoneEindhoven
-
Van den Hooven, Jan
NoneVeldhoven
-
Leeming, John Gerard
NoneLondon