Antireflexionsschicht aus Silizium-Nitrid
EP1174911
Art A3
10. September 2003
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1174911
- Aktenzeichen
- EP01113399
- Anmeldetag
- 1. Juni 2001
- Veröffentlichung
- 10. September 2003
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/027H01L21/768G03F7/09
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
6.825 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Kirschner, Klaus Dieter
München, Deutschland
863
Patente gesamt
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23
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