Verwendung eines borid-basierten Substrats zum Aufwachsen von nitrid-basierten Halbleiterschichten und Halbleiterbauelement mit demselben
EP1176231
Art B1
26. August 2009
Anmelder: National Institute for Materials Science, KYOCERA CORPORATION, Kyocera Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1176231
- Aktenzeichen
- EP01117725
- Anmeldetag
- 27. Juli 2001
- Veröffentlichung
- 26. August 2009
- Erteilung
- 26. August 2009
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C30B29/10H01L21/20H01L33/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- National Institute for Materials Science
KYOCERA CORPORATION
Kyocera Corporation - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
National Institute for Materials Science
Japanisches staatliches Forschungsinstitut mit Sitz in Tsukuba, das auf Materialwissenschaft und Werkstoffforschung spezialisiert ist.
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🇯🇵
Kyocera
Japanischer Technologiekonzern mit Sitz in Kyoto. Kyocera fertigt Keramikbauteile, Halbleiterkomponenten, Solarmodule, Druck- und Kopiersysteme sowie Elektronikprodukte für Industrie und Endverbraucher.
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Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München