Substratheizung zum gleichzeitig beidseitigen Beheizen eines Wafers

EP1178520 Art A3 7. Dezember 2005

Anmelder: Forschungszentrum Karlsruhe GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1178520
Aktenzeichen: EP01115992
Anmeldetag: 30. Juni 2001
Veröffentlichung: 7. Dezember 2005
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Forschungszentrum Karlsruhe GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Forschungszentrum Karlsruhe

Forschungszentrum Karlsruhe war eine deutsche Großforschungseinrichtung, die 2009 im Karlsruher Institut für Technologie (KIT) aufging. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Verfahrens- und Trenntechnik sowie Mess- und Halbleitertechnik, ergänzt durch Medizin- und Chemietechnik. Die Anmeldungen stammen überwiegend aus den Jahren 2000 bis 2009.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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