Ätzlösung aus gemischten Saüren, Verfahren zur Vorbereitung derselben, Ätzverfahren unter Verwendung derselben und Verfahren zur Herstellung einer Halbleiter-Anordnung
EP1178526
Art A3
3. März 2004
Anmelder: Mitsubishi Chemical Corporation, Nippon Kasei Chemical Company Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1178526
- Aktenzeichen
- EP01117723
- Anmeldetag
- 27. Juli 2001
- Veröffentlichung
- 3. März 2004
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/306C23F1/24C23F1/46
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Mitsubishi Chemical Corporation
Nippon Kasei Chemical Company Limited - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, Teil der Mitsubishi-Chemical-Gruppe. Das Unternehmen entwickelt Grund- und Spezialchemikalien, Kunststoffe, Materialien für Elektronik und Energiespeicher sowie Pharma- und Life-Science-Produkte.
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Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München