Vorbehandlung eines Wafers zur Verminderung der Abscheiderate von Siliziumdioxid auf Siliziumnitrid im Vergleich zu deren Abscheiderate auf einem Siliziumsubstrat
EP1178528
Art B1
11. Januar 2012
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1178528
- Aktenzeichen
- EP01306570
- Anmeldetag
- 31. Juli 2001
- Veröffentlichung
- 11. Januar 2012
- Erteilung
- 11. Januar 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/316H01L21/762C23C16/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
Vertreten von
Setna, Rohan P
London, Großbritannien
754
Patente gesamt
34
Fachgebiete
23
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Allard, Susan Joyce
NoneLondon