Verfahren zur Herstellung einer ferroelektrischen Festkörperschicht unter Verwendung eines Hilfsstoffes

EP1182276 Art B1 2. Januar 2008

Anmelder: Qimonda AG, Infineon Technologies AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1182276
Aktenzeichen
EP01119519
Anmeldetag
14. August 2001
Veröffentlichung
2. Januar 2008
Erteilung
2. Januar 2008
Rechtsraum
EP
IPC
C23C16/44C23C16/40C30B29/32H01L21/316C23C16/455
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
Qimonda AG
Infineon Technologies AG
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Infineon Technologies

Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.

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