Verfahren zur Bewertung der Konzentration an Metallischen Verunreinigungen in einem Siliziumwafer
EP1182454
Art A1
27. Februar 2002
Anmelder: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd., Shin-Etsu Handotai Co., Ltd 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1182454
- Aktenzeichen
- EP01901423
- Anmeldetag
- 18. Januar 2001
- Veröffentlichung
- 27. Februar 2002
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G01N33/00G01N21/88G01N21/31G01N1/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Shin-Etsu Handotai Co., Ltd.
Shin-Etsu Handotai Co., Ltd - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Handotai
Japanisches Unternehmen der Shin-Etsu-Gruppe, das Siliziumwafer für die Halbleiterindustrie herstellt.
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Cooper, John
Glasgow, Großbritannien
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