Lithographischer Apparat, Verfahren zu dessen Kalibrierung und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1182509
Art B1
8. April 2009
Anmelder: ASML Netherlands B.V., ASM LITHOGRAPHY B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1182509
- Aktenzeichen
- EP01307129
- Anmeldetag
- 22. August 2001
- Veröffentlichung
- 8. April 2009
- Erteilung
- 8. April 2009
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G03F9/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML Netherlands B.V.
ASM LITHOGRAPHY B.V. - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Maas, Abraham Johannes
Veldhoven, Niederlande
118
Patente gesamt
10
Fachgebiete
1
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Van den Hooven, Jan
NoneVeldhoven
-
Leeming, John Gerard
NoneLondon