Verfahren und Einrichtung zur Minimierung der Veränderung im Run-to-Run
EP1182526
Art A3
8. Dezember 2004
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1182526
- Aktenzeichen
- EP01119359
- Anmeldetag
- 10. August 2001
- Veröffentlichung
- 8. Dezember 2004
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G05B19/401G05B19/416G05B19/418G05B19/404
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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Vertreten von
Kirschner, Klaus Dieter
München, Deutschland
863
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