Verfahren zur Herstellung eines feinen hydrophoben Siliziumdioxidpulvers
EP1184425
Art B1
15. Oktober 2003
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1184425
- Aktenzeichen
- EP01307404
- Anmeldetag
- 31. August 2001
- Veröffentlichung
- 15. Oktober 2003
- Erteilung
- 15. Oktober 2003
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C09C1/30
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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Fachgebiete
Vertreten von
Stuart, Ian Alexander
London, Großbritannien
612
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14
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