Lithographischer Apparat
EP1184727
Art A1
6. März 2002
Anmelder: ASML Netherlands B.V., ASM LITHOGRAPHY B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1184727
- Aktenzeichen
- EP01307429
- Anmeldetag
- 31. August 2001
- Veröffentlichung
- 6. März 2002
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML Netherlands B.V.
ASM LITHOGRAPHY B.V. - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
5.380 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Van den Hooven, Jan
Veldhoven, Niederlande
677
Patente gesamt
18
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Leeming, John Gerard
NoneLondon