Prozesskammer mit einer Reflektierenden Heizplatte
EP1186007
Art B1
16. Januar 2008
Anmelder: ASML Holding N.V., ASML US, Inc., Silicon Valley Group, Inc. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1186007
- Aktenzeichen
- EP00941486
- Anmeldetag
- 16. Juni 2000
- Veröffentlichung
- 16. Januar 2008
- Erteilung
- 16. Januar 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML Holding N.V.
ASML US, Inc.
Silicon Valley Group, Inc. - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Fachgebiete
Vertreten von
McGowan, Cathrine
London, Großbritannien
353
Patente gesamt
30
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13
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Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Potter, Julian Mark
WP Thompson · London