Gas für Plasmareaktion und eine Methode zu Seiner Herstellung
EP1186585
Art B1
11. Mai 2005
Anmelder: Zeon Corporation, Nippon Zeon Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1186585
- Aktenzeichen
- EP00929847
- Anmeldetag
- 24. Mai 2000
- Veröffentlichung
- 11. Mai 2005
- Erteilung
- 11. Mai 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C07C23/08H01L21/205H01L21/302C23C16/50C07C17/38
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Zeon Corporation
Nippon Zeon Co., Ltd. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Zeon
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Zeon Corporation entwickelt synthetische Kautschuke, Spezialchemikalien und Elastomere für Anwendungen in Automobil-, Elektronik- und Batterieindustrie.
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Vertreten von
Albrecht, Thomas
München, Deutschland
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