Zylinderförmiges Sputtertarget und Verfahren zu seiner Herstellung

EP1186682 Art B1 10. November 2010

Anmelder: W.C. Heraeus GmbH, W.C. Heraeus GmbH & Co. KG, Unaxis Materials Deutschland GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1186682
Aktenzeichen
EP01121080
Anmeldetag
3. September 2001
Veröffentlichung
10. November 2010
Erteilung
10. November 2010
Rechtsraum
EP
IPC
C23C14/35H01J37/34C23C14/34B22D19/16
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
W.C. Heraeus GmbH
W.C. Heraeus GmbH & Co. KG
Unaxis Materials Deutschland GmbH
Land
🇩🇪 Deutschland

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Vertreten von
Kühn, Hans-Christian Hanau, Deutschland
510
Patente gesamt
24
Fachgebiete
8
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Medizintechnik & Gesundheit Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Anorganische Chemie & Werkstoffe Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
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