Abschattungsring für Plasmabeschichtungsanlagen

EP1186684 Art B1 7. Oktober 2009

Anmelder: Infineon Technologies AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1186684
Aktenzeichen: EP01120376
Anmeldetag: 25. August 2001
Veröffentlichung: 7. Oktober 2009
Erteilung: 7. Oktober 2009
Rechtsraum: EP
IPC: C23C14/50C23C14/32C23C14/34C23C14/56

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Infineon Technologies AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Infineon Technologies

Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.

4.872 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von