Vorrichtung zur thermischen Behandlung von Chargen und Methode zu deren Regelung
EP1189261
Art A3
14. Januar 2004
Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED, Tokyo Electron Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1189261
- Aktenzeichen
- EP01203454
- Anmeldetag
- 13. September 2001
- Veröffentlichung
- 14. Januar 2004
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/00F27D19/00C23C16/46
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- TOKYO ELECTRON LIMITED
Tokyo Electron Limited - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
2.414 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
De Hoop, Eric
Den Haag, Niederlande
406
Patente gesamt
29
Fachgebiete
17
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Schwerpunkte