Halbleitervorrichtung mit Oxidhalbleiterschicht auf ZnO-Basis und Herstellungsverfahren

EP1189290 Art A1 20. März 2002

Anmelder: DIRECTOR-GENERAL OF NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE AND TECHNOLOGY, ROHM CO., LTD., DIRECTOR-GENERAL OF NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE AND TECHNOLOGY 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1189290
Aktenzeichen
EP01121927
Anmeldetag
12. September 2001
Veröffentlichung
20. März 2002
Rechtsraum
EP
IPC
H01L33/00H01S5/327
Offizieller Volltext

Abstract

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Firmen
DIRECTOR-GENERAL OF NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE AND TECHNOLOGY
ROHM CO., LTD.
DIRECTOR-GENERAL OF NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE AND TECHNOLOGY
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Rohm

Japanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kyoto, spezialisiert auf integrierte Schaltkreise, diskrete Halbleiterbauelemente und Leistungshalbleiter (unter anderem Siliziumkarbid-Bauteile).

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