Verfahren zur Enfernung eines Silizium-Oxinitrids mittels eines Nasschemischen Verfahrens nach einem Gate-Ätzschritt

EP1190444 Art A2 27. März 2002

Anmelder: NXP B.V., Koninklijke Philips Electronics N.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1190444
Aktenzeichen
EP00992786
Anmeldetag
7. November 2000
Veröffentlichung
27. März 2002
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/31
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
NXP B.V.
Koninklijke Philips Electronics N.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 NXP Semiconductors

Niederländischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Eindhoven. Entwickelt Chips und Halbleiterlösungen für Automobiltechnik, Kommunikation, Sicherheit sowie industrielle Anwendungen.

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